يېرىم ئۆتكۈزگۈچ لىتوگرافىيە سىستېمىسى ساھەسىدىكى دۇنياۋى باشلامچى شىركەت ASML يېقىندا يېڭى بىر ئېكسكۇرسىيەلىك ئۇلترابىنەفشە نۇر (EUV) لىتوگرافىيە تېخنىكىسىنى تەرەققىي قىلدۇرغانلىقىنى ئېلان قىلدى. بۇ تېخنىكا يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ئىشلەپچىقىرىشنىڭ ئېنىقلىقىنى زور دەرىجىدە يۇقىرى كۆتۈرۈپ، كىچىكرەك ئىقتىدار ۋە يۇقىرى ئىقتىدارغا ئىگە چىپلارنى ئىشلەپچىقىرىشقا شارائىت ھازىرلايدۇ دەپ مۆلچەرلەنمەكتە.
يېڭى EUV لىتوگرافىيە سىستېمىسى 1.5 نانومېتىرغىچە ئېنىقلىققا ئېرىشەلەيدۇ، بۇ ھازىرقى ئەۋلاد لىتوگرافىيە قوراللىرىغا قارىغاندا زور دەرىجىدە ياخشىلانغان. بۇ يۇقىرى ئېنىقلىق يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ئورالما ماتېرىياللىرىغا چوڭقۇر تەسىر كۆرسىتىدۇ. چىپلار كىچىكلەپ، مۇرەككەپلىشىپ كەتكەنگە ئەگىشىپ، بۇ كىچىك زاپچاسلارنىڭ بىخەتەر توشۇش ۋە ساقلىنىشىغا كاپالەتلىك قىلىش ئۈچۈن يۇقىرى ئېنىقلىقتىكى توشۇغۇچ لېنتىلار، قاپاق لېنتىلىرى ۋە چاقماقلارغا بولغان ئېھتىياج ئاشىدۇ.
شىركىتىمىز يېرىم ئۆتكۈزگۈچ سانائىتىدىكى بۇ تېخنىكىلىق ئىلگىرىلەشلەرنى يېقىندىن كۆزىتىشكە بەل باغلىغان. بىز ASML نىڭ يېڭى لىتوگرافىيە تېخنىكىسى ئېلىپ كەلگەن يېڭى تەلەپلەرگە ماس كېلىدىغان ئورالما ماتېرىياللىرىنى تەرەققىي قىلدۇرۇش ئۈچۈن تەتقىقات ۋە تەرەققىياتقا مەبلەغ سېلىشنى داۋاملاشتۇرىمىز، بۇ يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ئىشلەپچىقىرىش جەريانىغا ئىشەنچلىك قوللاش بىلەن تەمىنلەيدۇ.
ئېلان قىلىنغان ۋاقىت: 2025-يىلى 2-ئاينىڭ 17-كۈنى